第二十四章：集成電路布圖設計權（選、簡）

　　一、概念：

　　集成電路是一種綜合性技術成果，它包括布圖設計和工藝技術。

　　集成電路：指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或全部互連線路集成在基片之中或基片之上，以執(zhí)行某種電子功能的中間產(chǎn)品或最終產(chǎn)品。

　　集成電路布圖設計：是附著于各種載體上的電子元件和連接這些元件的連線的有關布局設計。（我國的保護：必須具有原創(chuàng)性，才能受到法律保護）。

　　二、立法保護（專利法、著作權法不能給集成電路不圖設計有效的保護）：

　　（一）集成電路布圖設計實質上是一種圖形設計，但并非是工業(yè)品外觀設計，不適用專利法保護，理由：

　　1、布圖設計并不取決于集成電路的外觀，而決定于集成電路中具有電子功能的每一元件的實際位置。

　　2、布圖設計景觀需要專家的大量勞動，但設計方案不會有多大的改變，其設計的主旨在于提高集成度，節(jié)約材料、降低能耗，因此不具備創(chuàng)造性的專門要求。

　　3、集成電路技術發(fā)展迅速，產(chǎn)品更新?lián)Q代很快，其布圖設計不適宜采用耗費時間較多的專利審批程序。

　　（二）集成電路布圖設計是一種三維配置形態(tài)的圖形設計，但不屬于著作權法意義上的圖形作品或造型藝術作品，理由：

　　1、布圖設計由電子元件及其連線所組成，執(zhí)行某種電子功能，不表現(xiàn)任何思想。

　　2、布圖設計是多個元件合理分布并相互關聯(lián)的三維配置，是一種電子產(chǎn)品，不以其“藝術性”作為法律保護條件

　　3、著作權保護期長，如果將布圖設計作為一般作品保護，不利于集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

　　（三）各國大抵采取單行立法，確認布圖設計專有權，即給予其他知識產(chǎn)權的保護。

　　美國最先進行立法保護。世界知識產(chǎn)權組織在華盛頓召開的專門會議上通過《關于集成電路的知識產(chǎn)權條約》。我國《集成電路布圖設計保護條例》。

　　三、集成電路布圖設計專有權：

　　是一項獨立的知識產(chǎn)權，是權利持有人對其布圖設計進行復制和商業(yè)利用的專有權利。

　　（一）專有權的取得：

　　1、主體資格：中國自然人、法人或其他組織創(chuàng)作的布圖設計，依照本條例享有布圖設計專有權；外國人創(chuàng)作的布圖設計首先在中國境內(nèi)投入商業(yè)利用的，依照本條例享有布圖設計專有權；外國人創(chuàng)作的布圖設計，其創(chuàng)作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協(xié)議或與中國共同參加有關布圖設計保護國際條約的，依照本條例享有布圖設計專有權。

　　2、客體條件：合格的客體必須是具有獨創(chuàng)性的布圖設計。

　　3、方式與程序：

　　（1）方式：自然取得、登記取得、使用與登記取得。（我國實行登記制度）

　　（2）程序（我國）：申請、初審、登記并公告、對駁回申請的復審、登記的撤銷。

　　（二）專有權的內(nèi)容及其行使：

　　1、內(nèi)容：（布圖設計權的權能）不包括精神權利

　　布圖設計權：指權利的持有人對于權利的客體所能夠行使的權利。

　　（1）復制權：即專有權人有權通過光學的、電子學的方式或其他方式來復制其受保護的布圖設計。

　　（2）商業(yè)利用權：即專有權人享有將受保護的布圖設計以及含有該布圖設計的集成電路或含有此種集成電路的產(chǎn)品進行商業(yè)利用的權利。

　　2、布圖設計權的行使：三種形式

　　（1）自己對布圖設計進行復制或商業(yè)利用。

　　（2）將布圖設計權轉讓給他人所有。

　　（3）許可他人對布圖設計進行復制和商業(yè)利用。

　　（三）專有權的保護：

　　1、保護期限：

　　布圖設計保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算，以較前日期為準，但無論是否登記或投入商業(yè)利用，布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后，不再受《集成電路布圖設計保護條例》保護。

　　2、侵權責任及制止措施：

　　（1）民事責任：侵權行為人須立即停止侵權行為，并承擔賠償責任。賠償數(shù)額為侵權人所獲得的利益或被侵權人所受到的損失，包括被侵權人為制止侵權行為所支付合理開支。